用ASML的高NA EUV光刻机，2025年量产，但后来提前到了2024年下半年，等不及ASML的新机器。
于是，Intel就改用0.33 NA NXE:3600D/3800E，叠加双重曝光来实现18A工艺，同时使用应用材料的Endura Sculpta的曝光成形系统来尽可能减少双重曝光的使用。
尽管如此，Intel依然会是高NA EUV光刻机的第一家客户，可能会在18A节点的后期引入它。
台积电、三星都计划在2025年晚些时候投产2nm工艺，或许也会用上高NA EUV光刻机。
至于这种先进光刻机的价格，没有官方数据，不同报告估计在单台成本就要3-4亿美元，相当于人民币22-29亿元。
ASML今年发货第一台高NA EUV光刻机：成本逼近30亿元！
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